相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，净化工程设计安装，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
洁净室中的温湿度控制。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。
其空气净化要求仅次于1级，黄山净化工程，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。
1000级一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。
100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互独立，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
净化工程在设计时，工程的墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板，其特点为美观、刚性强。
圆弧墙角、门、窗框等一般采用氧化铝型材。
设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。
一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。
也可分四级，增加一级过滤器。

净化工程装修-黄山净化工程-恒荣|价格合理由合肥恒荣净化工程有限公司提供。
合肥恒荣净化工程有限公司实力不俗，信誉可靠，在安徽 合肥 的其它等行业积累了大批忠诚的客户。
合肥恒荣带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入**，共创美好未来！