具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
现在我们国家的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，池州净化车间，比美国更发达国家高出了15%。
看到这些令人心惊的数字，我们国家的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等，净化车间设计时，要根据实际情况选择。

净化工程在设计时，千级净化车间，无论是新建还是重新改造的净化车间，净化车间施工，都一定依照国家相关标准、规范进行。
设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。
一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。
也可分四级，净化车间工程，增加一级过滤器。
地面可采用环氧自流坪地坪或耐磨塑料地板，有防静电要求的，要选用防静电型。
送回风管道一般用镀锌钢板，不宜选用玻璃棉类材料保温。
照明应选用净化车间灯具。

压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间"直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。
24um线性膨胀，所以必须有±0。
1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

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