现在我们国家的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达国家高出了15%。
看到这些令人心惊的数字，我们国家的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，车间净化工程，设计出能够节省的相关设备。
直径100um的硅片，马鞍山净化工程，温度上升1度，就引起了0。
24um线性膨胀，所以必须有±0。
1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等，厂房净化工程，净化车间设计时，要根据实际情况选择。

现在我们国家的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。
以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。
1级：主要应用于电子工业，这是目前对净化工程要求高的环境，集成电路要求的精度要达到亚微米。
随着微电子工业技术领域的突飞猛进，对洁净室的要求越来越高。
及时生产间内的例子直径仅有1微米，也会使产品寿命受到影响。
100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。
一般用于行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，药品生产。
医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。

压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照国家相关标准、规范进行。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，实验室净化工程，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

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