相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。
洁净室中的温湿度控制。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，车间净化工程，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

净化工程在设计时，工程的墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板，其特点为美观、刚性强。
圆弧墙角、门、窗框等一般采用氧化铝型材。
布置工艺的流程尽可能短，实验室净化工程，减少交叉往复，、物流走向合理。
要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，宣城净化工程，每间用室相互独立，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。
1级：主要应用于电子工业，这是目前对净化工程要求高的环境，集成电路要求的精度要达到亚微米。
随着微电子工业技术领域的突飞猛进，对洁净室的要求越来越高。
及时生产间内的例子直径仅有1微米，无尘净化工程，也会使产品寿命受到影响。

压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。
一般用于行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，药品生产。
医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。
相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。

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合肥恒荣净化工程有限公司是安徽 合肥 ,其它的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。
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