压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
100级：是常用的净化工程，洁净室净化车间，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。
一般用于行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，药品生产。
医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。
相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产温度范围为35—45%。

在这里需要提醒大家的是自从我们国家的方面的改革条文GMP-2010发布之后，化妆品净化车间，既推动了生物和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。
而且相关方面的政策支持也让净化工程行业的发展机遇推到了。
直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。
24um线性膨胀，所以必须有±0。
1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，千级净化车间，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

湿度过高产生的问题更多。
相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。
相对湿度在50%时易生锈。
此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，黄山净化车间，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间"。

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